等离子清洗机常用的气体有哪些呢?下面我们简单的了解一下：

等离子清洗机在清洗过程中配合着差异的气体，其清洗功效也是迥乎差异的。

多运用的气体之一即是惰性气体氩气(Ar)，真空腔清洗过程中配合氩气(Ar)往往不妨有用得去除表面纳米级污染物。

假如想加固侵蚀功效，就请通入氧气(O2)。经过配合氧气(O2)在真空腔清洗，可有用的去除有机污染物，譬如光刻胶等。

尚有一些对照难去除的氧化物可利用氢气(H2)配合清洗，通常会选用氢氮夹杂气体(氢5%氮95%)。

最常用的气体是氮气(N2)，制作本钱低。这种气体主若是配合在线式等离子对原料表面活化和改性的使用。当然真空环境下也不妨运用。氮气(N2)是升高原料表面侵润性的首选。

尚有一些独特气体雷同于四氟化碳(CF4)，六氟化硫(SF6)等，蚀刻和去除有机物的功效会愈加显着。但这些气体的运用条件是要有绝对耐侵蚀气路和腔体结构，此外自身要戴好防护罩和手套才能工作。

真正使用过程中很少有独自运用一种纯气体的，通常都是两种或两种以上气体以差异的比例混用。如常见的氧气氩气混用，氮气氧气混用，四氟化碳与氮气混用等等，各公司因其制作工艺和处理要求的差别所用气体和比例都不尽相同。

上述就是等离子清洗机常用气体的类型，希望对你有所帮助。